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圆环烧结钕铁硼磁控溅射渗镝渗铽。看这里，电机钕铁硼磁钢厂家[瀚海新材料]
圆环烧结钕铁硼磁控溅射渗镝渗铽
了解了磁控溅射的基本方法和原理，想必大家对圆环烧结钕铁硼采用磁控溅射渗镝渗铽也有了一个基本的认识。采用直流磁控溅射的方法，将圆环烧结钕铁硼作为基体，镝或铽金属（纯度＞99.9%）作为靶材，在磁控溅射设备内注入氩气后，电子与氩原子发生碰撞，产生氩离子和新的电子，氩离子在电场作用下加速轰击靶材，靶材表面的镝或铽原子脱离原晶格而逸出，转移并沉积在钕铁硼表面（圆环烧结钕铁硼在进行磁控溅射前需要经过酸洗和超声水洗）。
这是磁控溅射渗镝渗铽的第一步。其中靶材 形成镀膜后，需将试样放置到真空烧结炉中进行扩散回火处理，这是第二步。磁体表面的镝/铽随着高温扩渗，经液相富Nd相进入磁体内部。一方面Dy/Tb可以改善Nd2Fe14B相之间的相互浸润性，优化富Nd相的显微组织和成分分布，另一方面，Dy具有较大的磁晶各向异性场，进入磁体内部后可以显著提升磁体的矫顽力。
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