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磁控溅射钕铁硼的方法与原理。看这里，电机钕铁硼磁钢厂家[瀚海新材料]
磁控溅射钕铁硼的方法与原理
磁控溅射钕铁硼其实是一种镀膜的方法，属于物理气相沉积的一种，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控溅射钕铁硼需要使用专门的设备，基片（被镀膜的物体）和靶材（镀膜物质，如铜、铝等）放入设备中，抽真空后注入氩气开始溅射反应。
溅射过程如下图，靶材在直流负高压或射频电压作用下，在惰性气体（如Ar氩气）中产生辉光放电，电离出的氩离子在电场的作用下加速飞向基片，过程中又与Ar(氩)原子发生碰撞，电离出更多的Ar离子和电子。Ar离子在电场作用下加速轰击靶材，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移并沉积在基片表面成膜。
若将靶材置于磁场中，电子在加速飞向基片的过程中受到磁场洛仑磁力的影响，被束缚在靠近靶面的等离子区域内，在磁场作用下围绕靶面做圆周运功，电子的运动路径被加长，这样和Ar原子碰撞的几率增加，产生更多的Ar离子和电子，可以提高溅射的效率。同时电子只有在其能量将耗尽的时候，才能摆脱磁力的束缚，远离靶材沉积到基片上，这样基片升温速度会大大减慢。
磁控溅射钕铁硼具有高速、低温、低损伤、稳定性好等特点。磁场分布、溅射速率、气压、电压、靶基距等因素都会影响溅射效果。根据电流形式的不同，磁控溅射钕铁硼可分为射频溅射、直流溅射和中频溅射几种。（射频溅射目前不适用于工业生产）
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